Paramèt teknik
Konpozisyon | Kontni | Nimewo CAS |
Dlo pi bon kalite | 85-90% | 7732-18-5 |
Benzoat sodyòm | 0.1-0.2% | 532-32-1 |
Surfactant | 4-5% | ∕ |
Lòt moun | 4-5% | ∕ |
Karakteristik pwodwi
1、High nivo pwoteksyon anviwònman: Gravure selektif ka reyalize san yo pa itilize baz òganik tankou TMAH.
2, pri pwodiksyon ki ba: Sèvi ak NaOH/KOH kòm likid la grave, pri a se pi ba anpil pase pwosesis la polisaj asid ak grave.
3、High efikasite grave: Konpare ak pwosesis la polisaj asid ak grave, efikasite batri a ogmante pa plis pase 0.15%.
Aplikasyon pou pwodwi
1、 Pwodui sa a jeneralman apwopriye pou pwosesis batri Perc ak Topcon;
2 、 apwopriye pou kristal sèl nan 210, 186, 166, ak 158 espesifikasyon.
Enstriksyon pou itilize
1, ajoute yon kantite apwopriye nan alkali nan tank la (1.5-4% ki baze sou rapò volim KOH / NAOH)
2 、 Ajoute yon kantite apwopriye nan pwodwi sa a nan tank la (1.0-2% ki baze sou rapò volim)
3, chofe likid tank polisaj la a 60-65 °C
4, mete wafer Silisyòm ak do PSG retire nan tank polisaj la, tan reyaksyon an se 180s-250s.
5, Rekòmande pèdi pwa pou chak bò: 0.24-0.30g (210 sous wafer, lòt sous yo konvèti nan pwopòsyon egal) selil solè sèl ak polikristalin PERC
Prekosyon
1、Aditif yo dwe estoke entèdi lwen limyè.
2、Lè liy pwodiksyon an pa pwodwi, likid la ta dwe ranpli ak vide chak 30 minit.Si pa gen okenn pwodiksyon pou plis pase 2 èdtan, li rekòmande drenaj ak ranpli likid la.
3 、 Nouvo liy debogaj mande DOE konsepsyon ki baze sou chak pwosesis nan liy pwodiksyon an pou reyalize pwosesis matche, kidonk maksimize efikasite.Pwosesis rekòmande a ka refere yo bay debogaj.