JH-1020 Single Silisyòm Wafer Netwayaj / Silisyòm Tranch Detèjan PH 12.0-14.0

1. Brèf
Sa a se pwodwi patant pou degrese nivo elèktron ak tranch Silisyòm klas solè nan IT ak zòn batri solè, ak nimewo patant lan se ZL200710020269.6.Pwodwi a genyen doub gwoup ak bon pèfòmans nan emulsion saponification edulcoration pou tallowvegetable oilmineral oilsoliquiodgrinding sot pase, tou nan stripingcomplexing edulcoration pou metal ion.

2. Karakteristik
1) pwodwi yon sèl gwoup ak PPR pafè (rapò pri pèfòmans)
2) dwe gratis nan kalsyòm, mayezyòm, metal, kwiv, plon ak fosfò, epi satisfè egzijans ROHS.
3) ba kim, pa gen okenn debòde kim nan netwayaj ultrasons.
4) bon pèfòmans degrese pou satisfè egzijans zòn IT-wo presizyon.

3. Enstriksyon
1) mete dlo pi nan netwaye tank jiska twa ka, Lè sa a, ajoute ajan nan 3% -5% konsantrasyon, ajoute dlo jouk nivo k ap travay, dènye, chofe solisyon an benyen jiskaske tanperati k ap travay.
2) bezwen chanje solisyon benyen konplètman apre degrese sèten kantite Silisyòm tranch.
3) redwi tan ekspoze nan lè pou evite oksidasyon.
4) tanperati k ap travay 50-65 degre, tan jete: 2-5 minit.

4. Nòt
1) ba solè pa ka manyen dlo, bezwen tranpe nan soliquiod oswa ajan degrese si pa ka netwaye nan tan.
2) bezwen jete ba solè nan tan le pli vit ke li te antre nan pwosesis degrese pou fè pou evite lè-sèk.
3) kenbe ba solè mouye lè deguming pou evite lè-sèk.
4) pou fè pou evite fragman, bezwen fèmen switch ti wonn nan tank no1 ak no2 lè ultrasons degrese, Lè sa a, vire sou switch la apre fikse.
5) bezwen chanje no5.6 ak 7 tank apre yon sik degrese.
6) tranch Silisyòm pa ka manyen.Travayè yo dwe travay ak gan pou evite anprent.
7) pou reyalize clearance a, bezwen flite Silisyòm tranch omwen 30miniuts anvan degumming.

5. Ajoute
1) anbalaj: 20kg / katon (2kg / boutèy), 25kg / barik plastik, 1000kg / barik
2) tan validite: yon ane